由于金刚线切割的多晶硅片损伤层较浅,采用传统的 HF/HNO3 制绒工艺表面反射率较高,一直制约着金刚线切割在多晶硅上的大规模应用。
而通过黑硅技术,可以很大幅度上解决金刚线切割带来的制绒工艺的困难,还能够形成纳米级凹坑,增加入射光的捕捉量,降低多晶电池片的光反射率以提升转换效率,虽然制绒过程会额外增加成本,但是总体而言,将黑硅技术同金刚线切割技术叠加,能够有效的降低多晶电池片的成本,黑硅路线是多晶电池必须走通一条道路。
目前市场上量产的黑硅技术主要分为离子反应法(RIE),湿法制绒的 MCCE 法,以及添加剂法。
参考中国报告网发布《2018-2023年中国锂电池行业盈利现状与投资前景评估报告》
其中 RIE技术对多晶电池的效率提升较高,目前国内企业以晶科、晶澳为代表,但 RIE 路线需要的设备价格较贵,单台成本超过 1000 万元以上,产能不高;湿法黑硅技术设备投资少,MCCE-2 设备每台投资 200~300 万元,但面临废液回收问题,国内代表企业是阿特斯、中节能(镇江)、晶科等公司。
将 PERC 技术同黑硅电池技术叠加,能够进一步提高多晶电池的效率,根据数据,其黑硅多晶电池在叠加了 PERC 技术之后,今年的 Q4 量产电池效率能达到 20.5%。
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