一、半导体光刻胶启动进口替代
日美垄断半导体光刻胶，内资企业迎头赶上。各类半导体光刻胶中，日美企业基本垄断了g/i线光刻胶、KrF/ArF光刻胶市场，生产商主要有JSR、信越化学工业、TOK、陶氏化学等。我国半导体光刻胶生产企业主要有苏州瑞红、北京科华等，两家企业持续加大研发投入和创新，有望持续引领半导体光刻胶国产化进程，逐渐降低我国对半导体光刻胶的进口依赖程度。
（1）苏州瑞红率先实现i线光刻胶的量产。苏州瑞红于1993年开始生产光刻胶，是国内最早规模化生产光刻胶的企业之一，承担了国家重大科技项目02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目，在国内率先实现核心光刻胶的量产，可以实现0.35μm的分辨率，在业内建立了较高技术声誉。
（2）北京科华领跑KrF/ArF光刻胶。北京科华建有国内第一条拥有自主知识产权的年产500吨i线光刻胶生产线，打破了我国i线光刻胶长期依赖进口的局面。同时，在国家“02专项”的支持下，公司完成了年产能10吨的248nmKrF光刻胶生产线的建设。根据公司公告，北京科华248nmKrF光刻胶已成功进入国内先进的集成电路制造企业，实现批量供货。此外，公司研发生产的193nmArF干法光刻胶中试产品已完成在国内一流集成电路制造企业的测试，其光刻性能初步达到了项目要求水平，分辨率可达110nm。根据北京科华与南大光电的计划，2018年该产品通过客户验证；针对193nmArF浸没式光刻胶产品，公司计划2017-2018年完成研发工作，达到客户送样验证要求，2019-2020年产品通过客户使用验证，而后逐渐形成批量销售。
二、中国半导体市场表现强劲，“国家政策+投资基金”加速产业发展
半导体市场向中国转移。根据WSTS和SIA统计数据，2016年全球半导体市场规模为3,389亿美元，同比增长1.1%，增长贡献主要来自于中国。2016年中国半导体市场规模为1,659.0亿美元，增速达9.2%，领跑其他市场。SIA主席JohnNeuffer指出，半导体广泛应用于各种领域，需求不断增加，2017年及以后还会保持稳定成长。从全球区域性看，半导体产能正持续向亚太地区转移，尤其加速转向中国大陆地区。
参考观研天下发布《2017-2022年中国光刻胶产业现状调查及十三五发展定位分析报告》
集成电路产业重心逐渐向中国倾斜。2009年前集成电路市场基本被美国、日本的企业所占据，近些年来全球集成电路大厂陆续在中国大陆投资设立工厂，包括台积电南京厂、联电厦门厂、英特尔大连厂、三星电子西安厂、力晶合肥厂等，覆盖了先进逻辑工艺、NANDFlash、DRAM及LCD驱动集成电路等产品领域。近年来中国集成电路产值增速均高于全球水平，产业重心正逐渐向中国转移。CSIA统计数据显示，2016年中国集成电路产值达4,335.5亿元，同比增长20.1%。
政府支持集成电路产业发展，半导体光刻胶成长空间大。据CSIA数据，2016年我国集成电路自给率为36%，进口依赖度较高。我国政府先后颁布多个政策文件，意在做大做强中国集成电路产业。《国家集成电路产业发展推进纲要》提出目标，到2020年我国集成电路行业销售收入年均增速不低于20%。《中国制造2025》将集成电路的发展上升为国家战略，并制订了集成电路自给率的目标：2020年大陆集成电路市场内需自给率达40%，2025年提高至50%。《软件和集成电路》预计我国2017年集成电路产值将达到5,217.2亿元，同比增长20.3%。此外，2014年国家成立了集成电路产业投资基金，重点投资集成电路芯片制造业，兼顾芯片设计、封装测试、设备和材料等产业。相信在国家政策的大力扶持下，通过产业基金的注入，我国集成电路产业有望迅猛发展。根据晶瑞股份招股书，2015年我国半导体光刻胶销售额为7.5亿元，受益于我国集成电路产业未来持续高景气，预计我国半导体光刻胶需求将保持高速增长。
日美垄断半导体光刻胶，内资企业迎头赶上。各类半导体光刻胶中，日美企业基本垄断了g/i线光刻胶、KrF/ArF光刻胶市场，生产商主要有JSR、信越化学工业、TOK、陶氏化学等。我国半导体光刻胶生产企业主要有苏州瑞红、北京科华等，两家企业持续加大研发投入和创新，有望持续引领半导体光刻胶国产化进程，逐渐降低我国对半导体光刻胶的进口依赖程度。
（1）苏州瑞红率先实现i线光刻胶的量产。苏州瑞红于1993年开始生产光刻胶，是国内最早规模化生产光刻胶的企业之一，承担了国家重大科技项目02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目，在国内率先实现核心光刻胶的量产，可以实现0.35μm的分辨率，在业内建立了较高技术声誉。
（2）北京科华领跑KrF/ArF光刻胶。北京科华建有国内第一条拥有自主知识产权的年产500吨i线光刻胶生产线，打破了我国i线光刻胶长期依赖进口的局面。同时，在国家“02专项”的支持下，公司完成了年产能10吨的248nmKrF光刻胶生产线的建设。根据公司公告，北京科华248nmKrF光刻胶已成功进入国内先进的集成电路制造企业，实现批量供货。此外，公司研发生产的193nmArF干法光刻胶中试产品已完成在国内一流集成电路制造企业的测试，其光刻性能初步达到了项目要求水平，分辨率可达110nm。根据北京科华与南大光电的计划，2018年该产品通过客户验证；针对193nmArF浸没式光刻胶产品，公司计划2017-2018年完成研发工作，达到客户送样验证要求，2019-2020年产品通过客户使用验证，而后逐渐形成批量销售。
图：中国半导体光刻胶进口替代展望
二、中国半导体市场表现强劲，“国家政策+投资基金”加速产业发展
半导体市场向中国转移。根据WSTS和SIA统计数据，2016年全球半导体市场规模为3,389亿美元，同比增长1.1%，增长贡献主要来自于中国。2016年中国半导体市场规模为1,659.0亿美元，增速达9.2%，领跑其他市场。SIA主席JohnNeuffer指出，半导体广泛应用于各种领域，需求不断增加，2017年及以后还会保持稳定成长。从全球区域性看，半导体产能正持续向亚太地区转移，尤其加速转向中国大陆地区。
图：全球半导体市场规模及增速
图：2016年全球各地区半导体市场规模
参考观研天下发布《2017-2022年中国光刻胶产业现状调查及十三五发展定位分析报告》
集成电路产业重心逐渐向中国倾斜。2009年前集成电路市场基本被美国、日本的企业所占据，近些年来全球集成电路大厂陆续在中国大陆投资设立工厂，包括台积电南京厂、联电厦门厂、英特尔大连厂、三星电子西安厂、力晶合肥厂等，覆盖了先进逻辑工艺、NANDFlash、DRAM及LCD驱动集成电路等产品领域。近年来中国集成电路产值增速均高于全球水平，产业重心正逐渐向中国转移。CSIA统计数据显示，2016年中国集成电路产值达4,335.5亿元，同比增长20.1%。
图：我国集成电路产值增速较快
图：我国集成电路自给率不断提升
政府支持集成电路产业发展，半导体光刻胶成长空间大。据CSIA数据，2016年我国集成电路自给率为36%，进口依赖度较高。我国政府先后颁布多个政策文件，意在做大做强中国集成电路产业。《国家集成电路产业发展推进纲要》提出目标，到2020年我国集成电路行业销售收入年均增速不低于20%。《中国制造2025》将集成电路的发展上升为国家战略，并制订了集成电路自给率的目标：2020年大陆集成电路市场内需自给率达40%，2025年提高至50%。《软件和集成电路》预计我国2017年集成电路产值将达到5,217.2亿元，同比增长20.3%。此外，2014年国家成立了集成电路产业投资基金，重点投资集成电路芯片制造业，兼顾芯片设计、封装测试、设备和材料等产业。相信在国家政策的大力扶持下，通过产业基金的注入，我国集成电路产业有望迅猛发展。根据晶瑞股份招股书，2015年我国半导体光刻胶销售额为7.5亿元，受益于我国集成电路产业未来持续高景气，预计我国半导体光刻胶需求将保持高速增长。
表：国内集成电路行业政策
表：2015年国内各类半导体光刻胶市场规模及增速
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