参考观研天下发布《2018年中国三氟化氮行业分析报告-市场运营态势与投资前景研究》
一、三氟化氮概述
三氟化氮是一种工业特种气体,其主要用作推进剂(火箭)、氟化剂、电子气、等离子干刻及用于掺杂、激光、光导纤维。
纯净的NF3气体是一种无色无味的气体，当混入一定量的杂质气体后颜色发黄，同时会有发霉或刺激性气味。NF3气体不可燃，但能助燃。当温度超过350℃时，三氟化氮气体会缓慢分解，分解时产生强氧化性氟，因此，在高温下它是一种强氧化剂。
三氟化氮是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2与F2之间反应能的有效部分（约25％）可以以激光辐射释放出，所HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术，它的需求量将日益增加。
二、产业与市场简述
我国是一个半导体产业、光伏产业、显示器产业生产及应用的大国，在发展这些新兴产业的同时，必不可缺少的需要发展它所用的NF3。半个多世纪以来，我国国内企业在NF3的开发生产方面相当薄弱，在我国的多个应用领域中所使用的NF3，很大部分还依赖从国外进口，发展我国高纯度制造业已经成为当务之急、势在必行。
据统计,目前15%～20%的三氟化氮在液晶显示器市场中用于清洗剂;65%～70%的三氟化氮用于半导体清洗和蚀刻。三氟化氮是超大规模集成电路液晶显示器件、半导体发光器件和半导体材料制造过程不可缺少基础性支撑原材料,液晶显示器的快速发展成为三氟化氮需求的主要推动力,三氟化氮目前无论在世界上,还是我国国内,都有着很大发展空间。
近年来三氟化氮需求量急剧增长,20世纪90年代中期全球年消费量不到46t,2004年其消费量已上升到2200t,至2005年约为3000t,2009年需求约在8000t，至2017年全球需求为25000左右。受半导体、液晶面板及光伏产业需求扩大影响,全球三氟化氮需求将以年均10%以上的比例增长。按不同地域看,亚洲的消费量最大。光伏产业近几年得到高速发展,光伏化学品也迎来大发展时代。2005年全球光伏化学品市场规模仅为1124亿美元，2015增至28108，预计未来该市场规模将继续扩大，至2020年该市场规模将超过40000亿美元。
面对国际上三氟化氮产业的快速发展,与之相比国内三氟化氮生产企业相对比较弱小,近年来我国企业也有了长足的进步。据统计(未包括台湾地区),我国三氟化氮2004年实际生产量约有30t,需求约为200t,2009年需求达到1000t左右，2015年需求已超过8000t。根据下游领域的发展规划来看,2016～2017年的三氟化氮年均需求增长率保持在20%左右。目前,中核红华已与杜邦合作,黎明院产品也出口到国外,国内718研究所NF3产品,纯度完全达到国外同类产品水平,唯一的区别是我们没有一个在行业内叫得响的品牌,因此在产品销售方面几乎是全部出口到国外公司,部分产品再被一些国外公司贴牌返销到中国市场上来。
我国作为氟化工工业大国,目前精细化已经成为产业结构调整的方向,含氟精细化学品的发展空间也最为广阔。从氟化工产业链来看,随着产品加工深度的增加,产品附加值呈几何级数增长。总体而言,国内精细氟化工产品的开发无论在数量还是质量上都还远远不能满足市场需求,未来的市场空间依然较大。三氟化氮作为高附加值特种气体,今后仍将随需求平稳增长,特别是我国液晶、太阳能产业的快速发展和巨大的后续市场,三氟化氮特种气体仍有一定的发展空间。
三、三氟化氮产能现状
我国三氟化氮产业发展大体上分三个阶段:最早是用于国防工业,主要是少量生产自用;其次是上世纪末随着经济的发展,三氟化氮产业化的研究迅猛发展,电子工业用三氟化氮相继问世;第三个阶段是近年在电子工业迅猛发展的推动下,国内三氟化氮的生产线相继投产,其制造水平已与国外发达国家水平相当。国内主要生产企业及产能列于下表。
一、三氟化氮概述
三氟化氮是一种工业特种气体,其主要用作推进剂(火箭)、氟化剂、电子气、等离子干刻及用于掺杂、激光、光导纤维。
纯净的NF3气体是一种无色无味的气体，当混入一定量的杂质气体后颜色发黄，同时会有发霉或刺激性气味。NF3气体不可燃，但能助燃。当温度超过350℃时，三氟化氮气体会缓慢分解，分解时产生强氧化性氟，因此，在高温下它是一种强氧化剂。
三氟化氮是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2与F2之间反应能的有效部分（约25％）可以以激光辐射释放出，所HF-OF激光器是化学激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术，它的需求量将日益增加。
二、产业与市场简述
我国是一个半导体产业、光伏产业、显示器产业生产及应用的大国，在发展这些新兴产业的同时，必不可缺少的需要发展它所用的NF3。半个多世纪以来，我国国内企业在NF3的开发生产方面相当薄弱，在我国的多个应用领域中所使用的NF3，很大部分还依赖从国外进口，发展我国高纯度制造业已经成为当务之急、势在必行。
据统计,目前15%～20%的三氟化氮在液晶显示器市场中用于清洗剂;65%～70%的三氟化氮用于半导体清洗和蚀刻。三氟化氮是超大规模集成电路液晶显示器件、半导体发光器件和半导体材料制造过程不可缺少基础性支撑原材料,液晶显示器的快速发展成为三氟化氮需求的主要推动力,三氟化氮目前无论在世界上,还是我国国内,都有着很大发展空间。
近年来三氟化氮需求量急剧增长,20世纪90年代中期全球年消费量不到46t,2004年其消费量已上升到2200t,至2005年约为3000t,2009年需求约在8000t，至2017年全球需求为25000左右。受半导体、液晶面板及光伏产业需求扩大影响,全球三氟化氮需求将以年均10%以上的比例增长。按不同地域看,亚洲的消费量最大。光伏产业近几年得到高速发展,光伏化学品也迎来大发展时代。2005年全球光伏化学品市场规模仅为1124亿美元，2015增至28108，预计未来该市场规模将继续扩大，至2020年该市场规模将超过40000亿美元。
面对国际上三氟化氮产业的快速发展,与之相比国内三氟化氮生产企业相对比较弱小,近年来我国企业也有了长足的进步。据统计(未包括台湾地区),我国三氟化氮2004年实际生产量约有30t,需求约为200t,2009年需求达到1000t左右，2015年需求已超过8000t。根据下游领域的发展规划来看,2016～2017年的三氟化氮年均需求增长率保持在20%左右。目前,中核红华已与杜邦合作,黎明院产品也出口到国外,国内718研究所NF3产品,纯度完全达到国外同类产品水平,唯一的区别是我们没有一个在行业内叫得响的品牌,因此在产品销售方面几乎是全部出口到国外公司,部分产品再被一些国外公司贴牌返销到中国市场上来。
我国作为氟化工工业大国,目前精细化已经成为产业结构调整的方向,含氟精细化学品的发展空间也最为广阔。从氟化工产业链来看,随着产品加工深度的增加,产品附加值呈几何级数增长。总体而言,国内精细氟化工产品的开发无论在数量还是质量上都还远远不能满足市场需求,未来的市场空间依然较大。三氟化氮作为高附加值特种气体,今后仍将随需求平稳增长,特别是我国液晶、太阳能产业的快速发展和巨大的后续市场,三氟化氮特种气体仍有一定的发展空间。
三、三氟化氮产能现状
我国三氟化氮产业发展大体上分三个阶段:最早是用于国防工业,主要是少量生产自用;其次是上世纪末随着经济的发展,三氟化氮产业化的研究迅猛发展,电子工业用三氟化氮相继问世;第三个阶段是近年在电子工业迅猛发展的推动下,国内三氟化氮的生产线相继投产,其制造水平已与国外发达国家水平相当。国内主要生产企业及产能列于下表。
国内三氟化氮主要生产企业及产能
| 国内三氟化氮主要生产企业及产能 |
||
| 序号 |
国内公司(所在地) |
产能 |
| 1 |
中国船舶重工集团 718 所(邯郸) |
450 |
| 2 |
中核红华特种气体公司(成都) |
100 |
| 3 |
三沙隆达天门农化公司(天门) |
60 |
| 4 |
黎明化工研究院(洛阳) |
100 |
| 5 |
台湾台塑集团(台湾仁武) |
800 |
| 6 |
杜邦中国公司(常熟) |
450 |
|
|
国内合计 |
1960 |
资料来源：公开资料整理
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